半导体洁净室资本开支迎来新一轮扩张周期分析

摘要： 本文基于 SK 海力士 DRAM 洁净室启用时间提前的电报内容，分析了半导体洁净室资本开支的新周期。洁净室作为芯片制造的刚需环节，直接受益于全球 AI 算力全产业链的扩产浪潮。

行业主线：

1. 资本开支新周期：全球半导体产能格局重塑带动洁净室投资，海外（北美、东南亚）及国内先进制程扩产将推动新一轮订单增长。
2. AI 算力全产业链刚需：洁净室工程覆盖芯片制造、封装测试、PCB 载板、服务器组装及数据中心，是 AI 算力扩产的基建基础。随着制程向 2nm 及以下演进，对微粒控制等要求提升，将推动服务商技术溢价。

关键变化与分歧：

1. 存储扩产核心驱动：全球 DRAM 市场规模预计 2026 年达 1700 亿美元，有望带动设备、材料及洁净室配套需求同步爆发。
2. 投资占比明确：在芯片晶圆厂建设投资中，厂务/设备支出占比约为 20%/80%，其中洁净室工程约占厂房投资的 60%。

受益方向与风险：

1. 受益方向：具备洁净室整体施工交付能力、在半导体净化领域有技术储备的工程服务商。
2. 核心风险：全球半导体扩产节奏低于预期、终端资本开支波动。