📰 研报摘要
查看全文 ➔摘要: 本报告分析了高纯电子级氢氟酸(特别是 G5 级产品)在 AI 算力驱动的半导体制造升级背景下的增长机遇。指出 AI 需求带动先进制程(3nm/2nm)及 HBM 存储扩产,显著提升了对超高纯电子级氢氟酸的需求,而全球供给端长期由日企主导且紧平衡,为国内厂商的国产化替代提供了空间。
行业主线:
- 需求端升级:AI 算力扩张驱动半导体制造向先进制程推进,蚀刻层数增加,导致对 G5 级超高纯氢氟酸的需求量显著提升。
- 供给端紧平衡:全球高端 G5 级产品由日本企业(如 Stella Chemifa、森田化学)主导,扩产意愿不足,导致全球供应偏少。
关键变化与分歧:
- 国产化率提升:国内多家企业已实现 G5 级产品量产,随着 12 英寸晶圆厂产能扩充,国产材料在高端领域的规模化替代有望加速。
- 供需缺口:预计 2028 年国内晶圆厂对 G5 级产品需求将达 5-6 万吨/年,中短期内供需将延续紧平衡状态。
受益方向与风险:
- 受益方向:具备 G5 级产品产能及下游客户认证优势的国内企业,有望在量价齐升中实现盈利增长。
- 核心风险:半导体扩产开支不及预期、国内产品认证进度缓慢或供给格局迅速恶化。