HVLP 铜箔专家交流纪要

会议纪要 行业研究 / 行业交流纪要 申万: 半导体 德福科技 (301511.SZ) 国际复材 (301526.SZ)
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📰 研报摘要

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摘要: 本次会议重点讨论了 HVLP 铜箔(特别是四代 HVLP4)在 AI 服务器高速互连板中的需求趋势、供给格局及技术瓶颈。专家指出,随着英伟达 Rubin、GB300 以及谷歌、亚马逊等大客户的量产,四代铜箔需求将大幅释放,但行业目前面临良率低、原材料短缺等核心挑战。

行业主线:

  1. 需求端快速增长:四代铜箔(HVLP4)主要应用于 M8 等高阶互连板,英伟达 GB300 的 Switch Tree、Rubin 系列以及谷歌 V7/V8、亚马逊 T3P3 等产品均有应用,预计 2026 年下半年需求将显著释放。
  2. 供给端存在缺口:目前国内供应商如潼关铜业、德福科技有扩产计划(目标 2027 年左右月产能达 1000 吨级),但实际可用产能受限于良率。

关键变化与分歧:

  1. 良率是核心瓶颈:目前国内厂商良率约 40%,即便提升至 60% 仍有生产风险。由于添加剂配方和表面处理工艺复杂,转产并非简单的设备调整。
  2. 全产业链短缺:除铜箔外,高阶板所需的树脂、玻璃布(如二代布)同样供应紧张。二代布需求预计在今年下半年大幅上升(月需求 400-500 万米),国际复材与泰山等厂商正在扩产。

受益方向与风险:

  1. 受益方向:具备高良率量产能力、能够率先通过终端客户验证的铜箔供应商,以及二代布扩产领先的复材厂商。
  2. 核心风险:工艺良率提升不及预期导致无法量产;上游树脂、玻璃布等原材料短缺导致整体出货受限。