新技术系列报告-玻璃基板专题1:AI 算力引领封装升级,关注 TGV 和电镀填孔核心工艺

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📰 研报摘要

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摘要: 本报告重点分析了玻璃基板在 AI 算力驱动的先进封装升级中的核心作用,详细探讨了其替代传统有机载板的技术路径、关键工艺流程(TGV、金属化、电镀填孔、RDL)以及整体产业化节奏。

行业主线:

  1. 材料升级趋势明确:受 AI 芯片向 Chiplet 和大尺寸 2.5D/3D 封装演进驱动,传统有机材料(BT/ABF)在形变翘曲和信号损耗方面逼近性能边界,玻璃基板凭借低热膨胀系数、高平整度和低介电损耗成为核心升级方向。
  2. 应用场景阶梯演进:玻璃基板将沿“显示与消费电子 $\rightarrow$ 半导体先进封装 $\rightarrow$ CPO 光电共封装”的路径逐步打开空间。

关键变化与分歧:

  1. 工艺瓶颈后移:TGV 成孔技术已基本完成验证并进入规模化导入阶段,产业化瓶颈正全面向后段的种子层沉积、无空洞电镀填孔及 RDL 高密度布线转移。
  2. 量产周期预测:海外龙头(如英特尔、博通)主导节奏,预计 2027 年起进入规模化量产周期。

受益方向与风险:

  1. 受益方向:高端玻璃原片、TGV 激光设备、磁控溅射设备、高深宽比电镀设备及配套电子级药水。
  2. 核心风险:TGV 及后段工艺良率提升不及预期、国际巨头技术壁垒较高、AI 算力实际需求及产业化落地节奏低于预期。