📰 研报摘要
查看全文 ➔摘要: 本次会议重点探讨了玻璃基板(Glass Substrate)在半导体先进封装中的应用前景。专家指出,玻璃基板凭借低介电常数、低信号损耗及高物理稳定性,是应对 AI 高算力芯片高频传输和高功耗需求的必然技术演进方向。
行业主线:
- 技术优势:玻璃基板的损耗因子比纯硅低 2-3 个数量级,能显著提升高频信号传输效率,且在耐高温和机械稳定性方面优于传统有机载板。
- 核心工艺挑战:产业化关键在于 TGV(玻璃通孔)的实现,目前倾向于“激光穿孔诱导蚀刻”方案以解决孔壁质量问题;其次是解决玻璃表面光滑导致的镀铜附着力差、填充不满等可靠性问题。
- 产品形态:未来趋势是减少不必要的层数,将玻璃核心层与中介层(Interposer)集成,以降低封装难度并提升性能。
关键变化与分歧:
- 量产节奏:目前处于实验室向 Fab 迁移的打磨阶段,良率约 50%-60%,预计大规模产业化出货需等到 2027 年下半年或之后。
- 竞争格局:英特尔(Intel)进度领先,三星(Samsung)紧随其后,台积电(TSMC)则在探索其特定的方案。
受益方向与风险:
- 受益方向:高性能玻璃原材料供应商(如康宁)、具备高精度 TGV 激光打孔能力的设备商,以及能够及时完成技术迭代的载板厂商。
- 核心风险:量产良率爬升缓慢、成本过高限制消费级市场渗透、技术路径迁移导致传统 ABF 载板厂商被淘汰。